光催化废气处理设备工作原理和特点

光催化工业有机废气处理设备的主要原理一是使用高能光波照耀在污染物上，使其直接参与光解反应;二是光波激起半导体催化剂，使其具有氧化复原反响的能力，到达氧化降解污染物的目的;三是者通过植物吸收高能子后，发生生物效应和化学效应，然后使有机物降解。

因为活性炭具有能够再生的特色，在活性炭用量大、废气浓度高及活性炭吸附饱和时间短的情况下，可运用活性炭脱附设备对活性炭进行再生循环运用(脱附介质可运用蒸汽)。运用活性炭脱附设备不光能够节省运转成本，并且能够对吸附的废气进行收回，同时避免了二次污染。

在不收回溶剂的情况下，还能够选用光催化氧化活性炭再生设备对活性炭进行再循环运用该设备核心中的纳米光催化触媒资料(GC-100)是一种吸收光能后，能在其外表发作催化反响的物质，其功能类似于植物的叶绿素。当特定纳米波长的紫外光照耀光催化触媒资料(GC-100)时，其外表发作光催化氧化复原反应。光催化触媒资料(GC-100)吸收光子后在其外表发作电(E-)和空穴(H+)，将吸收的光能转化成化学能，即具有光催化效果。当光催化触媒资料(GC-100)与空气中的水触摸时，外表就吸附H2O、OH被空穴(H+)所氧化，O2被电子(E-)复原，反响室如下:H2O+ H+ →OH. + H+O2+ E→O2-.  OH-基团的氧化才能较强，使有机物氧化，终究分化为水和CO2。

光催化废气处理设备特色

1、它是一种使用新式的复合纳米高科技功用资料的技能。

2、它一种是低温深度反响技能，光催化剂纳米粒子在必定波长的光线照耀 下受激生成电子-空穴对，空穴分化催化剂外表吸附的水发作氢氧自由基，电子使其周围的氧复原成活性离子，然后具有极强的氧化-复原效果，将光催化剂外表的各种污染物炸毁。

(1)低温深度反响:光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的物质。而传统的高温燃烧技能则需要在极高的温度下才可将污染物炸毁，即运用惯例的催化氧化方法亦需要几百度的高温。

(2)净化完全:它直接将空气中的有机污染物，完全氧化成无毒无害的物质，不留任何二次污染，目前广泛采用的活性炭吸附法不分化污染物，仅仅将污染源搬运。

(3)绿色动力:光催化可运用太阳光作为动力来活化光催化剂，驱动氧化-复原反响，并且光催化剂在反响过程中并不耗费。从动力视点而言，这一特征使光催化技能更具魅力。

(4)氧化性强:很多研究标明，半导体光催化具有氧化性强的特点，对臭氧难以氧化的某些有机物如三氯甲烷、四氯化炭、六氯苯、都能有用地加以分化，所以对难以降解的有机物具有特别含义，光催化的有用氧化剂是羟基自由基(HO)，HO的氧化性高于多见的臭氧、双氧水、高锰酸钾、次氯酸等。

(5)广谱性:光催化对从烃到羧酸的品种众多有机物都有用，美国环保署发布的九大类114种污染物均被证明可通过光催化得到管理，即便对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有很好的去掉效果，一般通过持续反响可到达完全净化。

(6)寿命长:理论上，催化剂的寿命是无限长的。